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电解抛光
电解抛光的基本原理与化学抛光相同，都是通过选择性溶解材料表面的微小凸起物，使表面变得光滑。与化学抛光相比，电解抛光可以消除阴极反应的影响，效果更佳。电化学抛光过程分为两个步骤：
（1）宏观整平：溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙度减小，Ra>1μm。
（2）光泽平整，阳极极化，表面亮度提高，Ra<1μm。
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