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化学抛光
化学抛光是让材料表面微观凸起部分比凹陷部分优先溶解于化学介质中，从而获得光滑表面。此方法的主要优点是不需要复杂的设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光许多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为几十μm。
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